論文 - 遠田 義晴
-
In-Situ Observation of Wet Oxidation Kinetics on Si(100) via Ambient Pressure X-ray Photoemission Spectroscopy（共著）
M. Rossi他
Journal of Applied Physics 103 044104 2008年02月
-
Real-Time Observation of the Dry Oxidation of the Si(100) Surface with Ambient Pressure X-ray Photoelectron Spectroscopy（共著）
Y. Enta他
Applied Physics letters 92 012110 2008年01月
-
Real-Time Observation of Initial Thermal Oxidation on Si(110)-16×2 Surfaces by O1s Photoemission Spectroscopy Using Synchrotron Radiation（共著）
M. Suemitsu他
Japanese Journal of Applied Physics 46 1888 - 1890 2007年04月
-
Real-Time Observation of Initial Thermal Oxidation on Si(110)-16x2 Surface by Photoemission Spectroscopy（共著）
M. Suemitsu他
ECS Transactions 3 311 - 316 2006年11月
-
ALS in Berkeley 滞在雑記
遠田義晴
Photon Factory News 24 ( 2 ) 55 - 57 2006年08月
-
Integrated Description for Random-Adsorption and 2D-Island Growth Kinetics in Thin Film Growth: Autocatalytic-Reaction Model and Kinetic Monte-Carlo Simulation（共著）
Hideaki Togashi , Yoshiharu Enta, Maki Suemitsu
Applied Surface Science 252 5900 - 5906 2006年06月
-
Oxynitridation of Si(100) surface with thermally excited N2O gas（共著）
Y. Enta, K. Suto, S. Takeda, H. Kato, Y. Sakisaka
Thin Solid Films 500 129 - 132 2006年04月
-
Si 2p core-level spectra for oxynitride on Si(100) with plasma-excited N2O（共著）
Y. Enta, K. Suto, H. Kato, Y. Sakisaka
Photon Factory Activity Report 22 ( B ) 79 - 79 2005年11月
-
Soft X-ray fluorescence spectroscopy of FexCo1-xSi（共著）
N. Nakajima他
Photon Factory Activity Report 22 ( B ) 102 - 102 2005年11月
-
XPS study of the initial oxidation stage on HF-treated Si(100) surfaces（共著）
F. Hirose他
Photon Factory Activity Report 22 ( B ) 82 - 82 2005年11月
-
N2Oガス気相熱励起法によるシリコン酸窒化膜の形成（共著）
遠田義晴,武田創太郎
電子情報通信学会論文誌 J87-C 590 - 591 2004年07月
-
Si初期酸窒化のリアルタイム光電子分光
遠田義晴
ナノテクノロジーと高分解能電子分光PF研究会プロシーディング 2003年12月
-
高周波マグネトロンスパッタリング法により作製したダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜の構造と熱的安定性（共著）
三上尊正,中澤日出樹,遠田義晴,末光眞希,真下正夫
表面科学 24 411 - 416 2003年07月
-
Structure, Chemical Bonding and These Thermal Stabilities of Diamond-Like Carbon (DLC) Films by RF Magnetron Sputtering（共著）
H. Nakazawa, T. Mikami, Y. Enta, M. Suemitsu, M. Mashita
Japanese Journal of Applied Physics 42 L676 - L679 2003年06月